高純度バルク化学薬品

高品質一般試劑到特殊用途試劑一應俱全

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シクロペンタノン	シクロペンタノン
アセトン	一般的に洗浄およびフォトレジストの剥離に使用される溶剤です。
テトラメチルアンモニウム水酸化物溶液 (TMAH)	フォトリソグラフィでのフォトレジストの現像剤として、またシリコンのエッチング剤として使用されます。
水酸化ナトリウム溶液 (NaOH)	洗浄およびエッチングに使用されます。
水酸化カリウム溶液 (KOH)	過酸化水素と組み合わせてウェハーの洗浄に一般的に使用され、ピラニア溶液として知られています。
水酸化アンモニウム (NH4OH)	過酸化水素と組み合わせてウェハーの洗浄に一般的に使用され、ピラニア溶液として知られています。
硫酸 (H2SO4)	過酸化水素と組み合わせてウェハーの洗浄に一般的に使用され、ピラニア溶液として知られています。
リン酸 (H3PO4)	アルミニウムおよび窒化ケイ素のエッチングプロセスで使用されます。
硝酸 (HNO3)	シリコン表面の酸化および洗浄に使用されます。
過酸化水素 (H2O2)	硫酸と組み合わせてウェハーの洗浄に使用され、酸化剤としても使用されます。
フッ化水素酸 (HF)	SiO2の主要なエッチング剤で、ウェハーの洗浄および表面準備に使用されます。
塩酸 (HCl)	シリコンウェハーの洗浄および金属不純物の除去に使用されます。