高純度バルク化学薬品

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プロピレングリコールメチルエーテルアセテート (PGMEA)	フォトリソグラフィでフォトレジストおよび他の材料の一般的な溶剤です。
Propylene Glycol Methyl Ether (PGME)	プロピレングリコールメチルエーテル (PGME)
N-メチル-2-ピロリドン (NMP)	フォトレジストの剥離および洗浄に使用される溶剤です。
モノエタノールアミン (MEA)	洗浄溶液およびフォトレジストの除去に使用されます。
メタノール	洗浄およびさまざまなプロセスで溶剤として使用されます。
ジメチルスルホキシド (DMSO)	さまざまな有機化合物および洗浄プロセスの溶剤として使用されます。
シクロヘキサノン	フォトレジストの製造および洗浄に使用される溶剤です。
γ-ブチロラクトン (GBL)	フォトリソグラフィおよび洗浄に使用される溶剤です。
ブチルジグリコール (BDG)	溶剤および洗浄用途に使用されます。
フッ化水素酸 (HF)	SiO2の主要なエッチング剤で、ウェハーの洗浄および表面準備に使用されます。
塩酸 (HCl)	シリコンウェハーの洗浄および金属不純物の除去に使用されます。
Ammonium Fluoride (NH4F)	SiO2 およびケイ酸塩材料のエッチングプロセスで使用されます。