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高純度バルク化学薬品
高純度バルク化学薬品
| 商品名 | 説明 | お問い合わせ |
|---|---|---|
| 酢酸(CH3COOH) | フォトリソグラフィおよび洗浄プロセスで有機残留物を除去し、フォトレジストの密着性を向上させるために使用されます。 | |
| Hydrogen Peroxide (H2O2) | ||
| Nitric Acid (HNO3) | ||
| Phosphoric Acid (H3PO4) | ||
| Sulfuric Acid (H2SO4) | ||
| Ammonium Hydroxide (NH4OH) | ||
| Potassium Hydroxide solution (KOH) | ||
| Sodium Hydroxide solution (NaOH) | ||
| Tetramethylammonium Hydroxide solution (TMAH) | ||
| Acetone | ||
| n-Butyl Acetate (NBA) | ||
| Isopropanol (IPA) |